2025-10-15 20:47:17
10月15日,ASML發(fā)布2025年第三季度財報,通過與Mistral AI合作將人工智能融入產(chǎn)品組合,實現(xiàn)凈銷售額75億歐元,凈利潤21億歐元。公司預(yù)計第四季度及全年業(yè)績將增長,2026年凈銷售額不低于2025年。此外,ASML發(fā)運首款先進封裝光刻機,拓展三維設(shè)備市場,并表示未來將會推出更多相關(guān)產(chǎn)品。
每經(jīng)記者|朱成祥 每經(jīng)編輯|張益銘
全球光刻機龍頭ASML(阿斯麥)也開始真正使用人工智能技術(shù)。10月15日,ASML發(fā)布2025年第三季度財報。
ASML總裁兼首席執(zhí)行官傅恪禮表示,公司通過與Mistral AI(米斯特拉爾人工智能公司)的合作,將人工智能全面融入全景光刻解決方案的產(chǎn)品組合,以進一步提升系統(tǒng)性能、生產(chǎn)效率,并為客戶優(yōu)化工藝良率。
2025年第三季度,ASML實現(xiàn)凈銷售額75億歐元,毛利率為51.6%,凈利潤達21億歐元。第三季度的新增訂單金額為54億歐元,其中36億歐元為EUV(極紫外)光刻機訂單。
ASML預(yù)計2025年第四季度凈銷售額在92億歐元至98億歐元之間,毛利率介于51%至53%;預(yù)計2025年全年凈銷售額將同比增長約15%,毛利率約為52%。此外,ASML預(yù)計2026年凈銷售額將不低于2025年水平。
在財報發(fā)布之后,ASML還發(fā)布了視頻采訪并召開投資者電話會。
傅恪禮表示,過去幾個月市場上涌現(xiàn)出一些積極消息,緩解了上個季度所討論的部分不確定性。首先,AI(人工智能)相關(guān)投資持續(xù)強勁,推動先進邏輯芯片和DRAM(動態(tài)隨機存取存儲器)需求增長。其次,AI的發(fā)展將惠及ASML更廣泛的客戶群體。再者,光刻在晶圓廠總體投資中所占的比重不斷提升,尤其是隨著EUV在DRAM和先進邏輯芯片客戶中的采用勢頭增強。
值得注意的是,ASML不僅受益于AI發(fā)展對芯片投資的需求,其自身也在積極利用AI。
ASML首席財務(wù)官戴厚杰表示,ASML已與Mistral AI建立合作伙伴關(guān)系。這是因為,Mistral AI在多個領(lǐng)域都備受認可。他們的企業(yè)級解決方案和大語言模型質(zhì)量廣受贊譽,尤其是在軟件編程和開發(fā)方面。此外,ASML設(shè)備內(nèi)的軟件系統(tǒng)越來越受到重視。要達到光刻系統(tǒng)所具備的精度和速度,以及在量測和檢驗中,軟件部分的重要性日益提高。
戴厚杰認為,對ASML而言這項合作具有重要戰(zhàn)略意義,除了能夠提升公司向客戶所交付系統(tǒng)的精準度和運行速度外,AI的應(yīng)用對于提高產(chǎn)品開發(fā)速度和加快產(chǎn)品進入市場的速度具有重要意義,這也是雙方正在協(xié)作推進的領(lǐng)域。
為強化這一戰(zhàn)略合作關(guān)系,ASML成為Mistral AI C輪融資的領(lǐng)投者,獲得約11%的股份,并成為其戰(zhàn)略委員會的成員之一。
此外,ASML此次也表示,已發(fā)運首款服務(wù)于先進封裝的產(chǎn)品——TWINSCAN XT:260。這是一款i-line光刻機,其生產(chǎn)效率相較現(xiàn)有解決方案提升高達4倍。
長久以來,ASML的光刻機被視為先進工藝走向微縮最重要的工具。不過,隨著線寬的縮小,工藝微縮的難度越來越大。因此,臺積電、英特爾等廠商紛紛推出2.5D、3D封裝,尋求三維空間的突破,而不是在一個平面內(nèi)放置更多的晶體管。
ASML發(fā)運先進封裝設(shè)備,意味著光刻機龍頭也開始向三維空間拓展設(shè)備市場。
傅恪禮表示,3D集成技術(shù)是推動摩爾定律繼續(xù)向前的重要路徑之一。一方面,ASML通過持續(xù)推進光刻技術(shù)路線圖來賦能2D微縮領(lǐng)域;與此同時,正如此前在投資者日上提到的,公司也會支持客戶在3D集成領(lǐng)域的發(fā)展。全景光刻解決方案下的多項技術(shù)可以被應(yīng)用于3D集成,這也是公司正在探索該領(lǐng)域機會的原因。
傅恪禮指出,XT:260(用于先進封裝的光刻機)是ASML在這個賽道的首款產(chǎn)品。放眼明年的需求,已有多家客戶表現(xiàn)出對該款產(chǎn)品的興趣;未來,ASML還將推出更多支持3D集成領(lǐng)域的產(chǎn)品。
值得一提的是,相較于晶圓制造,先進封裝中光刻設(shè)備價值量占比相對較低。根據(jù)開源證券,先進封裝設(shè)備價值量占比較高的為CMP(化學(xué)機械研磨)、Bumping(凸點)電鍍和光刻等。CMP、Bumping電鍍價值量占比均為7.5%;光刻設(shè)備價值量占比為6.3%。
封面圖片來源:圖片來源:視覺中國-VCG211378353242
如需轉(zhuǎn)載請與《每日經(jīng)濟新聞》報社聯(lián)系。
未經(jīng)《每日經(jīng)濟新聞》報社授權(quán),嚴禁轉(zhuǎn)載或鏡像,違者必究。
讀者熱線:4008890008
特別提醒:如果我們使用了您的圖片,請作者與本站聯(lián)系索取稿酬。如您不希望作品出現(xiàn)在本站,可聯(lián)系我們要求撤下您的作品。
歡迎關(guān)注每日經(jīng)濟新聞APP